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        石墨烯層數或可控

        發布日期:2019-09-16 作者: 點擊:

        眾所周知,石墨烯是單層的二維碳原子結構。石墨烯哪家好,單層的石墨烯性能,用途。然而,在某些應用研發方面,單層的石墨烯卻并不能要求。特定層數的石墨烯成為有關研究人員的追求目標。因此,石墨烯層數控制早已經成為一項熱門研究。然而對這一目標的研究卻鮮有進展。近期,上海微系統與信息研究所信息功能材料重點實驗室SOI材料課題組在層數可控石墨烯薄膜制備方面取得新進展。課題組設計了Ni/Cu體系,并利用離子注入引入碳源,通過控制注入碳的劑量,成功實現了對石墨烯層數的調控。石墨烯纖維


        石墨烯纖維


        上海微系統所SOI材料課題組圍繞石墨烯層數控制問題,結合Ni和Cu在CVD法中制備石 墨烯的特點,利用兩種材料對碳溶解能力的不同,設計了Ni/Cu體系(即在25 μm厚的Cu箔上電子束蒸發一層3 nm的Ni ),并利用半導體產業中成熟的離子注入將碳離子注入到Ni/Cu體系中的Ni層中,通過控制注入碳離子的劑量(即4E15 atms/cm2劑量對應單層石墨烯,8E15 atoms/cm2劑量對應雙層石墨烯),經退火后成功實現了單、雙層石墨烯的制備。


        離子注入是指把摻雜劑的原子引入固體中的一種材料改性方法。簡單地說,離子注入的過程,就是在真空系統中,用經過加速的,要摻雜的原子的離子照射(注入)固體材料,從而在所選擇的區域形成一個具有性質的表面層(注入層)。與傳統的CVD制備石墨烯工藝相比,離子注入具有低溫摻雜、的能量和劑量控制和高均勻性等優點,采用離子注入法制備石墨烯單雙層數受碳注入劑量的影響,與氣體的體積比、襯底厚度以及生長溫度無關。此外,離子注入與現代半導體相兼容,有助于實現石墨烯作為電子材料在半導體器件領域真正的應用。


        本文網址:http://www.do-ce.com/news/459.html

        關鍵詞:石墨烯哪家好,石墨烯膏體,石墨烯功能性母粒

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